Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Купить бумажную книгу и читать

Название: Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Автор: Берлин Е.В., Сейдман Л.А.

Издательство: Техносфера

Год: 2010

Страниц: 544

ISBN: 978-5-94836-222-9

Формат: PDF

Размер: 51.5 Мб

Язык: русский

Серия: Мир материалов и технологий

Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магметронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов.

Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старщих курсов и аспирантов соответствующих специализаций.